當前位置:上海旭為光電科技有限公司>>合作自營>> Surise數字微鏡陣列DMD
| DMD微鏡陣列 | 傳輸速度 | ||||||||
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| 型號 | DMD | 波長 | 陣列 | 像素/μm | 鏡面/mm | 1bit | CPU | 數據傳輸率 | 端口 |
| D6500 | 0.65" | VIS | 1920 x 1080 | 7.6 | 14.5x8.2 | 9253 | 400MHz | 25.6Gb/s | USB2.0 |
| D4100-0.55 XGA | 0.55" | VIS | 1024 x 768 | 10.8 | 11.0x8.3 | 32552 | 400MHz | 25.6Gb/s | USB2.0 |
| D4100-0.7 XGA | 0.7" | VIS,UV,NIR | 1024 x 768 | 13.7 | 14.0x10.5 | 32552 | 400MHz | 25.6Gb/s | |
| D4100-0.95 1080p | 0.95" | VIS,UV | 1920 x 1080 | 10.8 | 20.7x11.7 | 23148 | 400MHz | 51.2Gb/s | |
| D4100集成了德州儀器的2xLVDS DLP套片組以及Xilinx公司Virtex 5芯片,可發揮2xLVDS DLP套片組的性能優勢。 | |||||||||
| 支持USB 2.0高速圖片傳輸及顯示、具有內外同步觸發功能;提供USB 2.0底層驅動及動態鏈接庫文件,方便二次開發; | |||||||||
| D4200-0.55 XGA | 0.55" | VIS | 1024 x 768 | 10.8 | 11.0x8.3 | 32552 | 400MHz | 25.6Gb/s | 千兆以太網(X2) |
| D4200-0.7 XGA | 0.7" | VIS,UV,NIR | 1024 x 768 | 13.7 | 14.0x10.5 | 32552 | 400MHz | 25.6Gb/s | 千兆光纖(X2) |
| D4200-0.95 1080p | 0.95" | VIS,UV | 1920 x 1080 | 10.8 | 20.7x11.7 | 23148 | 400MHz | 51.2Gb/s | 萬兆光纖(X1) |
| D4200將原來D4100一個DDR2的內存條升級為2個DDR3的內存條、USB 2.0 接口升級為千兆以太網(X2)、千兆光纖(X2)和萬兆光纖(X1),進一步提高了系統數據吞吐量,限度DMD的性能。 | |||||||||
技術優勢:
應用領域:
3D打印技術是快速成型技術的一種,是一種以數學模型文件為基礎,運用粉末狀金屬或塑料等可粘合材料,通過逐層打印的方式來構造物體的技術。常在模具制造、工業設計等領域被用于制造模型,后逐漸用于一些產品的直接制造,已經有使用這種技術打印而成的零部件。該技術在珠寶、鞋類、工業設計、建筑、工程和施工(AEC)、汽車,航空航天、醫療產業、教育、地理信息系統、土木工程、以及其他領域都有所應用。
光譜分析是一種功能強大的非接觸式技術,通過分析不同波長的光在整個光譜中的吸收或反射變化,可以快速識別物質的成分和相關特性。 光譜分析根據物質的光譜來鑒別物質及確定它的化學組成和相對含量,根據分析原理光譜分析可分為發射光譜分析與吸收光譜分析二種。光譜分析可以支持可見光、紅外光IR或紫外光UV波長。
3D檢測是一種快速和準確的采集物體物理信息方式,通過圖像和數據的處理,可以得到物體的長度、寬度、高度、體積,特征尺寸,特征位置、面積等信息。
DLP的空間光調制技術在醫學領域上有很多的應用案例,比如:,眼科,血管投影,皮膚測量,基因科學等方面。
光刻(英語:photolithography)是半導體器件制造工藝中的一個重要步驟,該步驟利用曝光和顯影在光刻膠層上刻畫幾何圖形結構,然后通過刻蝕工藝將光掩模上的圖形轉移到所在襯底上。這里所說的襯底不僅包含硅晶圓,還可以是其他金屬層、介質層,例如玻璃、SOS中的藍寶石。
場景紅外仿真可應用于紅外圖像分析研究、戰場環境模擬和紅外測試等眾多領域。將圖像利用壓縮技術和特殊的編碼壓縮成單像素,再由紅外發射/接受裝置遠程得到圖像,通過解碼得到拍攝到的畫面。
首先通過光路系統將成像目標投影到DMD上,其反射光由透鏡聚焦到單個光敏二極管上,光敏二極管兩端的電壓值即為一個測量值X,將此投影操作重復N次,然后用算法構建原始圖像。
DMD由數字電壓信號控制微鏡片的翻轉以實現對入射光線的調整,相當于0-1隨機測量矩陣。
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